沉积室衬垫：
应用：泛半导体加工设备
特性：高等离子体耐久性、高纯度
结构：针对Φ200/300mm设备
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刻蚀环：
应用：泛半导体加工设备
特性：高等离子体耐久性、高纯度
结构：针对Φ200/300mm设备
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刻蚀窗口：
应用：泛半导体加工设备
特性：高等离子体耐久性、高纯度
结构：针对Φ200/300mm设备
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搬运臂：
应用：泛半导体加工设备
特性：高耐磨性、耐热、高精度
结构：针对Φ200/300mm设备
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喷嘴：
应用：泛半导体加工设备
特性：高等离子体耐久性、高介电强度、高纯度
结构：根据需要可进行复杂形状加工